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» 2017年04月25日 10時11分 UPDATE

ArF液浸:ニコンがASMLなど提訴 露光装置の特許侵害主張

ニコンがASMLとツァイスに半導体露光装置の特許を侵害されたとして日独蘭で提訴。

[ロイター]
photo 4月24日、ニコン は、オランダASMLとドイツ光学機器大手カールツァイスが半導体露光装置に関する特許を侵害しているとして、特許技術が使われている同装置などの販売差し止めと損賠賠償を求める訴えをオランダ、ドイツ、日本で起こしたと発表した。2016年2月撮影(2017年 ロイター/Thomas Peter)

[東京/フランクフルト 24日 ロイター] - ニコン <7731.T>は24日、オランダASMLとドイツ光学機器大手カールツァイスが半導体露光装置に関する特許を侵害しているとして、特許技術が使われている同装置などの販売差し止めと損賠賠償を求める訴えをオランダ、ドイツ、日本で起こしたと発表した。

ニコンは、半導体製造の中核装置である露光装置の中で、「ArF液浸」と呼ばれる先端の装置について特許侵害を主張している。同装置を製造しているASMLにはオランダ・ハーグ地裁と東京地裁で、ASMLの液浸露光装置に使用されている光学部品を製造するカールツァイスをドイツのマンハイム地裁にそれぞれ提訴した。

ニコンはArF液浸装置のシェアでASMLに大きく差をつけられており、今回の提訴の行方は、経営にも少なからぬ影響を及ぼしそうだ。

訴状には暫定の損害賠償請求額が示されているが、「今後は裁判において立証していく中で増額していく」(ニコン広報部)としている。

一方、ASML側は、ニコンの提訴について、「事実無根かつ不必要なもので半導体産業に不確実性をもたらす」(ピーター・ウェニック最高経営責任者)と批判を交えて反論している。カールツァイスからはコメントは得られていない。

(浜田健太郎 Harro ten Wolde Eric Auchard 編集:吉瀬邦彦)

Copyright © 2017 Thomson Reuters

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