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2002年4月23日　09:03 AM 更新

Intel，EUVリソグラフィ装置発注

　Intelが，超紫外線（EUV）リソグラフィ装置の試作機をオランダのASMLに発注した。リソグラフィは半導体製造工程の一部。EUVは，超高速小型チップの実現に有効とされる（2月26日の記事参照）。ASMLの22日の発表によると，Intelへの納品は2005年下半期の予定。この装置は300ミリウエハに対応，当初は45nmをターゲットに置く。EUVは波長13.5nmの光線を使い，フィーチャーサイズ45nm以下を実現する。ASMLは1999年から，Intelを含む半導体メーカー各社によって結成された組織，EUV LLCのライセンシーとなっていた。→詳細記事

[ITmedia]