News:ニュース速報 | 2003年2月19日 08:51 AM 更新 |
Intelの最高経営責任者(CEO)Craig Barrett氏は米カリフォルニア州サンノゼで開催のIntel Developer Forum(IDF)で2月18日、基調講演を行い、アリゾナ州の製造施設を同社5番目の300ミリウエハー製造拠点とするために20億ドルを投じる計画などを明らかにした。この新施設は2005年末までに完成し、65ナノメートルのプロセス技術を採用する。
同社は今年、こうした先進技術採用の成果を、いくつか披露することになる。Barrett氏はその一例として、最近発表した携帯電話向けの新チップや、近く登場するCentrinoモバイルプロセッサなどを挙げた。
また同社は、「Prescott」や「Dothan」といった次世代デスクトップ/モバイルプロセッサにより、既存製品の強化にもあたる。これらプロセッサは90ナノメートルプロセスで製造され、Dothanではさらなるバッテリ駆動時間の延長など、ワイヤレスコンピューティング向けの機能を強化する。
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