News：ニュース速報 2001年9月6日　12:06 PM 更新

日立，走査プローブ顕微鏡利用の線幅25ナノメートル加工技術を開発

　日立製作所基礎研究所はこのほど，線幅25ナノメートルのパターンを容易に作製できる加工技術を開発した。走査プローブ顕微鏡（SPM）を応用したもので，小型で操作が簡単な点が特徴という。

　SPMを利用した加工技術では，先端を鋭く尖らせたプローブと，レジストを塗ったシリコン基板間に電圧を加え，プローブから放射される電子線で局所的にレジスト膜に化学反応を起こすこことでパターンを形成する。ただしこの方法では，電子線照射量の制御が難しく，複雑なパターンの加工には壁があった。

　日立では，レジスト膜への電子線照射量を一定にできる制御技術と，ドットパターンを描画できる定電圧制御技術を開発。両技術をパターンに応じて使い分けることで，25ナノメートルオーダーの複雑なパターンも作製できるようになったという。装置が小型な上，簡単な操作で作製できるため，「ナノテク研究を加速する基本技術として期待できる」としている。

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