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2004/05/20 08:48 更新


Intel、65nmプロセス実現へ20億ドル追加投資

米Intelは5月19日、アイルランドの製造施設に20億ドルを追加投資する計画を発表した。65ナノメートルプロセスの実現、および新設予定製造施設Fab 24-2の建設資金となる。

 米Intelは5月19日、アイルランドの製造施設に20億ドルを追加投資する計画を発表した。65ナノメートルプロセスの実現、およびFab 24-2の建設資金となる。

 既存の製造施設Fab 24と新設予定のFab 24-2に、65ナノ技術に必要な製造装置を導入するほか、クリーンルームを増設。新モジュールの製造は2006年上半期に開始の見通しだとしている。

 Intelは1989年以来、アイルランドに60億ドルを投じ、Fab10、Fab14、新設のFab 24などを建設している。今回アイルランド当局との合意に基づき、補助金や優遇措置を受ける予定。

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