ルネサスと松下、45ナノも共同開発
松下電器産業とルネサステクノロジは8月3日、45ナノメートルプロセス技術の共同開発に着手したと発表した。従来の共同開発体制を次々世代プロセスにも拡大する。
/news/articles/0608/03/6752.t.gif,松下電器産業の株価チャート,,http://quote.yahoo.co.jp/q?s=6752.t&d=t
松下電器産業の株価チャート（1年：縦軸の単位は円）
このほど開口率（NA）が1以上の液浸ArF（アルゴンフッ素）スキャナを導入、フルインテグレーションに着手した。ロジック用でNAが1以上の液浸ArFリソグラフィー技術は業界初という。2007年度中ごろに開発を完了し、2008年度に量産開始を目指す。
両社は次世代の65ナノメートルプロセスを2005年に開発完了している。45ナノメートルでも従来の関係を継承する。
同プロセスをめぐっては、東芝、ソニー、NECエレクトロニクスが共同開発を発表。国内勢は3社陣営とルネサス・松下、単独の富士通に分かれたが、NECエレ、東芝、ルネサス、富士通は45ナノプロセスの標準化を目指すことで合意している。
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