2007年の半導体設備投資額、前年比4.1％増――Gartner予測

公開 2007年10月05日 08時27分

更新 2007年10月05日 13時48分

[ITmedia]

印刷する Googleで優先するソースとして追加

　調査会社の米Gartnerは10月4日、世界の半導体設備投資額の統計と、今後の予測を発表した。2007年の設備投資額は437億ドルで、前年を4.1％上回る見通し。

　2007年の投資額は、300ミリウエハーの製造能力増強が進んでいる上、「生産能力が過剰であるにもかかわらず、DRAMベンダー間での投資競争が衰えを見せなかった」ことから、予想を上回る投資額となったという。一方、2008年は反動で伸びが鈍化し、前年比0.3％増の438億ドルにとどまる見通し。

　分野別にみると、ウエハー設備への投資額は45ナノメートル技術の採用増に伴い、2007年は前年比6.4％増となるが、2008年は1.3％減に転じる見通し。パッケージングおよびアセンブリ設備は、2006年に前年比18％増加したことの反動で、2007年は前年比3.4％減となるが、2008年には5.5％増に転じる見込み。自動テスト設備では、2007年の投資額は前年比4.8％減だが、2008年は7.3％の増加となる見通し。

印刷する