45ナノプロセスのシステムLSI要素技術、東芝が開発
東芝は6月16日、45ナノメートルプロセス世代のシステムLSIを開発するための要素技術として、高性能MOSFET（MOS型電界効果トランジスタ）と多層配線技術を開発したと発表した。
システムLSIは、微細化を進めるほどリーク電流が増え、パフォーマンスが上がらなくなるという問題があった。今回開発したMOSFETは、新開発のゲート酸化膜技術を採用することで、リーク電流を抑えながら高いパフォーマンスを得られるという。
また、多機能なシステムLSI開発に必要な多層配線技術として、動作周波数と消費電力によって配線パラメーターを最適化する手法を確立したという。
両技術の開発により同社は、45ナノプロセス世代のシステムLSI開発に1歩近づいたとしている。
現在、45ナノプロセスのシステムLSIに対応したメモリ混載技術などをソニーグループと共同で開発中。
Copyright © ITmedia, Inc. All Rights Reserved.
こんなメディアも見られています
ITmedia NEWSに関連する情報をお探しであれば、こちらのメディアもお役に立てるかもしれません。
SpecialPR
本日の新着記事
アクセスランキング
-
1
メルカリ、梨の転売疑惑に「盗品の出品は確認されず」 誹謗中傷には利用制限も
-
2
「こんなのに追われたら……」急斜面もやすやす爆走、中国製の車輪付き四足ロボのデモ動画が話題 最高時速20km超
-
3
検索結果に「詐欺ではありません」と表示させる詐欺手口、警視庁が注意喚起 AI要約も餌食に
-
4
Z世代に聞く次の流行、「AIイラスト」が1位に 「Claude Code」も上位
-
5
はてな、11億円流出の調査報告書を公開 偽警察、口外禁止、残業・休出200時間超、孤立……ほころびが連鎖
-
6
東野圭吾さん死去、Xなどで追悼相次ぐ 「ガリレオ」など数々の人気作、エンジニアから転身
-
7
NVIDIAやMicrosoftなど30社超、オープンAIの防御ツール共同開発の「Open Secure AI Alliance」設立
-
8
「あ、その情報メモしたい！」を叶えるワイヤレスイヤフォン、Nothing「Ear (3a)」
-
9
有識者はGoogleやX、Meta、ドワンゴを名指しで批判……総務省、偽広告や誹謗中傷に発信・拡散前の対策求める
-
10
「痺れるほどにミスを繰り返す」Gemini 3.6 Flashは変わった？ 公開から1週間、当初のおバカ回答を今検証する
ITmedia NEWS SNS
@itmedia_newsをフォロー
インフォメーション
注目情報をチェック
ITmediaNEWSをフォロー
あなたにおすすめの記事PR