Intelがシリコンレーザー開発、プロセッサの光接続に道

公開 2005年02月17日 07時54分

更新 2005年02月17日 13時37分

[IDG Japan]

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　米Intelの研究者が、シリコンデバイスで常時レーザーを発生させる手法を開発した。同社の2月16日の発表によれば、これは将来的に、プロセッサ、サーバ、PC間の光接続導入に向けた第一歩となる。

　Intelではラマン効果と呼ばれる原則と、標準的な半導体製造技術を利用して、光ビームを継続的に生成できるトランジスタライクな装置を開発。この光波を使うと、現在チップ接続の標準となっている銅よりも高速でデータを伝送できると、同社フォトニクス技術研究所ディレクター、マリオ・パニッチア氏は説明する。この研究は同日、科学誌Natureのサイトに掲載された。

　「これらビルディングブロックはまだ研究プロジェクトだが、この10年の終わりまでには同技術を移転させたいと考えている」。パニッチア氏は16日の電話会見でこう語った。

　Intelでは1年がかりでラマン効果とシリコンフォトニクスに取り組んできたが、今回、レーザービームの強度が弱まる原因となっていた大きな障害を回避する方法を発見した。

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