Intel、ニューメキシコの製造施設を45nm対応に

　米Intelは2月26日、ニューメキシコ州リオランチョにある製造施設Fab 11Xを45ナノメートル（nm）製造プロセスに対応させるために10億～15億ドルを投じると発表した。

　Fab 11Xは同社にとって、45nmプロセスを採用する4番目の施設となる。この施設での同プロセスによる生産は来年後半に開始される予定だ。この施設では現在、90nmプロセスプロセッサを製造している。

　Intelは今年後半に、オレゴン州の製造施設D1Dで45nmプロセスでのプロセッサ製造を開始する予定。また同社は現在、このプロセスを採用した2つの製造施設を建設中だ。1つは30億ドルをかけたアリゾナ州チャンドラーのFab 32で、年内に稼働する。もう1つは35億ドルをかけたイスラエルのキルヤト・ガトのFab 28で、来年前半に生産を開始する。

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