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「MOSFET」関連の最新 ニュース・レビュー・解説 記事 まとめ

最新記事一覧

onsemiは炭化ケイ素(SiC) MOSFETとゲートドライバーの最適な組み合わせを自動で提案する新ツール「Elite Pairing Studio」を発表した。データシートの比較やシミュレーションを繰り返していた従来のデバイス選定を自動化。設計初期段階で最適な組み合わせを導き出すことで、設計期間の短縮につながるという。

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Navitas Semiconductorは、世界最大規模のパワーエレクトロニクス展示会「PCIM Expo & Conference 2026」(2026年6月9〜11日/ドイツ・ニュルンベルク)において、高耐圧SiC MOSFET用の新パッケージ「UHV-TO-247-4-ISO」を初公開した。絶縁構造を組み込むことで、1200〜3300VクラスのディスクリートSiC MOSFETをヒートシンクに直接リフロー実装可能にした。

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Wolfspeedは世界最大規模のパワーエレクトロニクス展示会「PCIM Expo & Conference 2026」において、同社の第5世代炭化ケイ素(SiC)MOSFETを紹介した。1200V品で業界最低クラスという特性オン抵抗を実現したほか、高温時の安定したスイッチング特性や逆回復特性を強化している。

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SiC MOSFETの採用拡大が本格化する中、実際の使用環境に近いAC動作を繰り返すことでゲートしきい値電圧(Vth)が変動し、設計時に想定した損失や熱特性が変化する課題が注目されている。こうした特性変動を評価するDGS試験において、三菱電機は同社SiC MOSFETの特性変動量が「世界最小クラス」(同社)であることを実証したという。

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東芝デバイス&ストレージ(東芝D&S)は2026年5月21日、1200V耐圧トレンチゲート型炭化ケイ素(SiC)MOSFET「TW007D120E」を発表した。独自のトレンチゲート構造の採用によって「単位面積当たりで、業界トップクラスの低オン抵抗」(同社)を実現し、既存製品と比較してオン抵抗を約58%削減している。

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ロームは2026年4月2日、新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)のグリーンイノベーション基金事業のもとで取り組んできた「8インチ次世代SiC MOSFETの開発」の技術目標を達成したと発表した。技術目標は「電力損失50%以上の低減」「低コスト化」で、当初の予定から2年前倒しで達成した。

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Patentixは、ルチル型二酸化ゲルマニウム(r-GeO2)を用いて作製したデプレッション型(ノーマリオン)MOSFETの動作実証に成功した。この成果を基に今後は、p型r-GeO2の作製技術を確立していくとともに、エンハンスメント型(ノーマリオフ)MOSFETの開発に取り組む計画である。

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Infineon Technologiesの炭化ケイ素(SiC) MOSFETがトヨタ自動車の新型「bZ4X」に採用された。車載充電器(OBC)およびDC-DCコンバーターに搭載。Infineonは「SiCの特性である低損失、高耐熱、高耐圧によって航続距離の延伸と充電時間の短縮の実現に寄与する」としている。

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