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» 2004年05月25日 17時44分 UPDATE

Intelとジャフコ、山梨の半導体材料企業に4億4000万円出資

[ITmedia]

 米Intelの投資ファンドIntel Capitalは5月25日、半導体材料開発のトリケミカル研究所(山梨県上野原町)にジャフコと4億4000万円を共同出資したと発表した。

 トリケミカル研究所は、半導体用の特殊な配線材料や成膜原料、光ファイバー材料などを開発している。インテルは、チップの性能向上を可能にする先端半導体材料の研究で撮りケミカルを評価して出資を決めた。

 トリケミカルは調達資金で半導体材料の研究開発を強化し、グローバルな事業展開を行なうとしている。

 Intel Capitalの今年の国内投資は、1月の日本通信に続き2社目。

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