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» 2005年07月08日 08時22分 UPDATE

Sasser作成少年の公判、拘留期間めぐり意見対立

Sasserワーム作成の少年について、保護観察中の再犯に対する処分をめぐり、検察と弁護側で意見が分かれた。刑の宣告は8日に予定されている。(IDG)

[IDG Japan]
IDG

 Sasserワーム作成の罪に問われている19歳のドイツ人少年の公判で7月7日最終弁論が行われ、少年が保護観察期間中に犯罪を犯した場合の処分をめぐって検察側と弁護人の意見が分かれた。

 スベン・ヤシャン被告の公判は5日に独フェルデンの地裁で始まった。コンピュータ損壊、データ操作、公共システム妨害の罪に問われている。

 7日の裁判所の書面によれば、検察側はヤシャン被告に対して3年間の保護観察期間を設け、この間に200時間の公共奉仕を行うことを求めている。保護観察中に再び犯行に及んだ場合、少年拘置所で2年間拘留される。

 これに対してヤシャン被告の弁護人は、保護観察中に犯罪を犯した場合の拘留期間を1年とするよう請求。少年はコンピュータワーム作成時、犯罪の意図はなかったと主張している。

 フェルデン地裁の広報官によれば、裁判所では8日に結論を出し、刑を言い渡す意向だが、その内容は検察側、弁護側の請求とは違うものになる可能性もある。

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