Intel、米国で次世代製造技術に60億～80億ドルを投資
米Intelは10月19日、米国の製造施設において次世代製造技術に60億～80億ドルを投じると明らかにした。
次世代の22ナノメートル（nm）製造プロセスを米国の既存の製造施設に展開するほか、オレゴン州に新たな施設を建設する。このプロジェクトは建設作業に関連して6000～8000人分の雇用を創出し、800～1000人分のハイテク業務を生み出すとしている。
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