Intel、65nmプロセス実現へ20億ドル追加投資

[ITmedia]

　米Intelは5月19日、アイルランドの製造施設に20億ドルを追加投資する計画を発表した。65ナノメートルプロセスの実現、およびFab 24-2の建設資金となる。

　既存の製造施設Fab 24と新設予定のFab 24-2に、65ナノ技術に必要な製造装置を導入するほか、クリーンルームを増設。新モジュールの製造は2006年上半期に開始の見通しだとしている。

　Intelは1989年以来、アイルランドに60億ドルを投じ、Fab10、Fab14、新設のFab 24などを建設している。今回アイルランド当局との合意に基づき、補助金や優遇措置を受ける予定。