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» 2006年08月03日 17時31分 公開

ルネサスと松下、45ナノも共同開発

ルネサステクノロジと松下が従来の関係を維持し、45ナノメートルプロセスも共同開発に着手。開口率1以上の液浸技術をロジックで初めて採用する。

[ITmedia]

 松下電器産業とルネサステクノロジは8月3日、45ナノメートルプロセス技術の共同開発に着手したと発表した。従来の共同開発体制を次々世代プロセスにも拡大する。

松下電器産業の株価チャート松下電器産業の株価チャート(1年:縦軸の単位は円)

 このほど開口率(NA)が1以上の液浸ArF(アルゴンフッ素)スキャナを導入、フルインテグレーションに着手した。ロジック用でNAが1以上の液浸ArFリソグラフィー技術は業界初という。2007年度中ごろに開発を完了し、2008年度に量産開始を目指す。

 両社は次世代の65ナノメートルプロセスを2005年に開発完了している。45ナノメートルでも従来の関係を継承する。

 同プロセスをめぐっては、東芝、ソニー、NECエレクトロニクスが共同開発を発表。国内勢は3社陣営とルネサス・松下、単独の富士通に分かれたが、NECエレ、東芝、ルネサス、富士通は45ナノプロセスの標準化を目指すことで合意している。

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