DNP、45ナノのフォトマスクラインを京都に新設

[ITmedia]

　大日本印刷は、45ナノメートルプロセスフォトマスク量産に対応した製造ラインを、京都工場（京都市南区）敷地内に建設すると発表した。最先端フォトマスクの需要増に対応する。

　今年12月に着工し、2008年1月に稼働開始する。投資額は160億円で、新ラインによる売り上げは、2008年度で70億円、2010年度で120億円を見込む。

　同社は現在、埼玉県の上福岡工場で45ナノプロセス対応フォトマスクの開発・製造を行っているが、需要増への対応と災害時のリスク分散を考慮し、新設備投入を決めた。