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» 2004年11月04日 18時55分 UPDATE

大日本スクリーンとニコン、次世代フォトリソプロセス共同研究を強化

[ITmedia]

 大日本スクリーン製造とニコンはこのほど、次世代半導体フォトリソグラフィープロセスの共同研究を強化することで合意した。

 昨年7月に始めた共同研究を継続し、さらに強化する。大日本スクリーンの300ミリウエハー対応塗布現像装置と、ニコンのアルゴンフッ素エキシマレーザー対応露光装置を使い、インラインシステムとしての性能強化を図る。

 線幅変動の要因を、塗布現像プロセス由来と露光プロセス由来とに切り分け、それぞれ補完し合うプロセスの開発で均一性を向上させる。プロセス間の時間や、システムの熱など、各種要因の管理にも取り組む。

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