Intel、イスラエルに新半導体製造工場建設で250億ドル投資へ　ネタニヤフ首相が発表

　イスラエルのベンヤミン・ネタニヤフ首相は6月18日（現地時間）、週次閣議で米Intelがイスラエルに半導体製造工場を建設すると発表した。「この工場には250億ドルが投資される予定だ。これはイスラエルにとって史上最大の投資になる」と語った。

ベンヤミン・ネタニヤフ首相（公式Twitterアカウントより）

　ネタニヤフ首相の公式Twitterアカウントは同日、この工場は世界最先端の技術を使用するものだともツイートした。

　これは、Intelが2021年に打ち出した戦略「IDM 2.0」の一環。この戦略には、半導体製造能力のグローバルな進化と拡充、外部ファウンドリの積極活用、世界レベルのファウンドリサービス提供という3つの柱がある。イスラエルでの工場建設は1つ目の柱によるものだ。

　Intelは16日には、ポーランドに46億ドルで半導体の組み立ておよび試験施設を建設すると発表した。

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