IBM、Samsungなど4社が共同で、45nmプロセス技術を発表

[ITmedia]

　米IBM、シンガポールChartered Semiconductor Manufacruring、独Infineon Technologies、韓国Samsung Electronicsの4社は8月29日、共同開発の45ナノメートル（nm）プロセス技術を使った初の実用型回路を開発したこと、および同プロセス用のデザインキットの提供開始を発表した。デザインキットは特定の顧客向けにただちに提供を開始する。

　この回路は次世代通信システムでの採用を想定したもので、ニューヨークにあるIBMの300ミリウエハー工場で生産された。共同開発した組み込みメモリ、Infineonのライブラリセル、入出力エレメンツなどの検証に成功したという。

　45nmプロセス技術は、2007年末までにChartered、IBM、Samsung各社の300ミリ工場に本格導入される見通し。