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» 2005年11月03日 07時08分 UPDATE

Intelの半導体製造施設Fab 12が再開

米アリゾナ州のFab 12は20億ドルを掛けた改修プロジェクトで、300mmウエハー/65ナノメートル製造技術に対応した工場に生まれ変わった。

[ITmedia]

 米Intelは11月2日、アリゾナ州にある半導体製造施設「Fab 12」の再開を発表した。

 Fab 12の改修プロジェクトは約20億ドルをかけて2004年に着工。300mmウエハーから65ナノメートル製造技術を使って半導体を製造できる施設に生まれ変わった。生産量では同社2番目の規模となる。

 Intelでは米国内の製造施設の拡張を進めており、今年に入って計40億ドル規模の拡張プロジェクトを発表している。

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