ITmedia NEWS > 企業・業界動向 >
ニュース
» 2007年10月26日 08時39分 UPDATE

Intel、同社初の「45nm量産施設」の稼働開始

Intelが30億ドルを投じたアリゾナ州のFab 32が稼働。45ナノメートル技術対応の300ミリウエハー工場で、プロセッサの出荷開始は11月12日を予定している。

[ITmedia]

 米Intelは10月25日、米アリゾナ州チャンドラーの製造施設Fab 32の稼働開始を発表した。

yu_fab32.jpgyu_fab32-2.jpg

 同社が30億ドルを投じた300ミリウエハー製造施設で、45ナノメートル(nm)製造プロセスを採用。同プロセスの採用ではオレゴン州の開発施設D1Dに次いで同社で2番目、量産施設としては同社初となる。プロセッサの生産開始は11月12日を予定している。

 Fab 32は広さ18万4000平方フィート。製造面で最新技術を採用しただけでなく、電力や工業用水の節減などに努めた「当社で最も環境に優しい施設」で、米環境性能評価システム(LEED)の認定を受けたいとしている。

 同社では、Fab 32に次ぐ「45nmプロセス・300ミリウエハー」製造施設として、2008年にはイスラエルのFab 28、米ニューメキシコ州のFab 11xの2施設の稼働を予定している。

関連キーワード

Intel | 半導体 | グリーンIT


Copyright © ITmedia, Inc. All Rights Reserved.