米半導体大手Micron Technologyは10月4日(現地時間)、米ニューヨーク州オノンダガ郡クレイに大規模な半導体製造施設を建設すると発表した。向こう20年間で最大1000億ドルを投資し、同州で約5万人の雇用を創出するとしている。
バイデン米大統領が8月に署名した「CHIPS and Science Act」法を受けたもの。同法では、対象企業に520億ドル(約7兆円)を投じることなどが盛り込まれている。
同社は9月には米アイダホ州での新工場建設も発表した。
米国では米Intelや韓国Samsung Electronicsなども米国内での半導体施設の建設や拡張の計画を発表している。
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バイデン米大統領、国内での半導体製造・開発支援法案に署名 対象企業に520億ドル(約7兆円)
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Samsung、米テキサス州に170億ドルで新たな先端半導体工場建設Copyright © ITmedia, Inc. All Rights Reserved.
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