Micronが広島工場に「クリーンルーム」を新設 旺盛なAI需要を見越してメモリ生産能力を強化
» 2026年07月06日 17時45分 公開
[井上翔，ITmedia]
Micron Technologyは7月4日、マイクロンメモリ ジャパンの広島工場（広島県東広島市）において新しい「クリーンルーム」を着工した。第1期工事では約2万8000m2の建設を予定しており、2028年後半から製造装置の搬入が始まる見通しだ。なお、クリーンルームの新設には経済産業省からの支援（最大5360億円）を受けることになっている。
マイクロンメモリ ジャパンの前身（旧商号）は、NEC（日本電気）と日立製作所のDRAM事業を統合してできた会社「エルピーダメモリ」だ。広島工場は、NECのDRAM製造子会社だったNEC広島（広島エルピーダメモリを経て、エルピーダメモリに吸収合併）がルーツで、現在では日本で唯一のDRAM工場となっている。
同所にはエルピーダメモリから引き継いだR＆D（研究開発部門）も併設されており、MicronグループにおけるDRAM／HBM（広帯域メモリ）の“最先端”拠点でもある。
今回、Micronが広島工場でのクリーンルーム（空気清浄度の高い生産施設）を新設することにした背景には、「AIの導入拡大により急増する先進メモリへの需要に対応」する目的がある。これにより、将来的には地域に1000人以上の雇用を創出できる見込みともアピールしている。
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