米Micron Technologyは日本国内でのDRAM製造に注力しており、2019年には広島工場に製造棟(B2棟)を増設し、さらに2022年9月には、DRAM生産に最大465億円程度の助成金を交付する計画が日本政府から認定された。
具体的には、同社の広島工場における生産計画が、日本政府から「特定高度情報通信技術活用システムの開発供給及び導入の促進に関する法律」に基づく特定半導体生産施設整備等計画として認定され、最大約465億円に及ぶ助成金の交付を受ける予定だ。
バーティア氏は「過去3年間に渡り、広島工場に毎年多額の開発費を投じて1β DRAMの開発を進めてきた。少なくとも今後2年間は年10億ドル以上の投資を行って1β DRAMの量産体制を強化していく」と述べた。
これを受けてMicron Technology 社長 兼 CEOのサンジェイ・メロートラ氏は「日本政府のサポートには感謝している。約465億円の助成金は1β DRAM生産に対してサポートとなるが、生産設備に必要な資金(約1394億円)の大半は当社自身による投資となる」とした。
Micron Technologyは11月16日に、DRAMとNANDメモリの供給量を2022年第4四半期比で約2割削減すると発表済みだ。
メロートラ氏は「今はメモリの需要と供給のバランスが崩れていて厳しい状況にある。当社ではそのような環境に対応すべく手を打っているが、需給のバランスが回復するのはしばらく時間が掛かるだろう」と語り、さらなる設備投資の追加削減も検討しているとした。
多彩なDRAMを製造している広島工場だが、先端プロセスの工場は同社に限らずほぼ撮影が禁止されている。そこで、今回は同社が報道関係者向けに公開した動画の中から、メモリを製造しているクリーンルームの様子をお届けする。
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