Micron Technologyは10月3日、同社の広島の生産拠点が経済産業省から最大1920億円の助成金の支援を受ける予定であることを発表した。
今回の支援は、極端紫外線(EUV)を用いた1γ(ガンマ)DRAMプロセスノードの生産および1γノードを採用した次世代広帯域メモリの研究開発の支援に充てられる予定だ。
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